1、工艺流程图

2、工艺说明
离子除臭设备是由离子发生器、离子传送管、控制系统组成,通过特制的光源产生不同能量的光量子,利用恶臭物质对该光量子的强烈吸收,在大量携能光量子的轰击下使恶臭物质分子解离和激发,从而达到除臭、清除异味的效果,普遍应用于工厂、车间、污水站、垃圾除臭等场所。
3、产品简介

离子除臭设备的主要原理是在高压电场作用下,产生大量的正、负氧离子,具有很强的氧化性。能在极短的时间内氧化、分解甲硫醇、氨、硫化氢、醚类、胺类等污染臭气因子,打开有机挥发性气体的化学键,最终生成二氧化碳和水等稳定无害的小分子,从而达到净化空气的目的。
本产品利用特制的高能高臭氧紫外线光束照射恶臭气体和TiO2光催化,催化裂解恶臭气体如:氮、三甲胺、硫化氢、甲硫氢、甲硫醇、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC类,苯、甲苯、二甲苯的分子链结构,使有机或无机高分子恶臭化合物分子链,在高能紫外线光束照射下,降解转变成低分子化合物,如CO2、H2O等。
TiO2光催化的催化化性在很大程度上影响光催光反应速率,而TiO2光催光活性主要受TiO2的晶型和粒径的影响。锐钛型TiO2的催化活性高。随着粒径的减少,电子与空穴简单复合的概率降低,光催化活性增大。另外,孔隙率、平均孔径、粒子表面状态,纯度等对其光催化活性也均有一定影响。为了提高光降解效率,对TiO2光催化剂进化改性,如研制纳米TiO2,制备TiO2的复合半导体,金属离子掺杂、染料光敏化等。也可以采用各种先进的手段制备TiO2催化剂,以提高光催化剂的活性。
利用高能臭氧紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需氧分子结合,进而产生臭氧。众所周知臭氧对有机物具有极强的氧化作用,对恶臭气体及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。
利用高能光束裂解恶臭气体中细菌分子键,破坏细菌的核酸(DNA),再通过臭氧进行氧化反应,彻底达到脱臭及杀灭细菌的目的。
离子除臭设备适用于:垃圾、污水厂等市政设施,以及制药厂、油漆厂、涂料厂、皮革厂、石油化工、农药厂、制药厂、印刷厂、造纸厂、饲料加工厂等等工业场所。
4、技术参数表
设备型号
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规格尺寸(mm)
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处理风量(m³/h)
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进出尺寸
(mm)
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设备阻力
(pa)
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设备质量
(kg)
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长
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宽
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高
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HPION-5
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1500
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1000
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2200
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5000
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Φ400
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<300
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350
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HPION-8
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1500
|
1500
|
2200
|
8000
|
Φ500
|
<300
|
450
|
HPION-10
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2000
|
1500
|
2200
|
10000
|
Φ600
|
<300
|
600
|
HPION-15
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2000
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2000
|
2200
|
15000
|
Φ750
|
<300
|
750
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HPION-20
|
2500
|
2000
|
2200
|
20000
|
Φ850
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<300
|
850
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HPION-25
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2500
|
2500
|
2200
|
25000
|
Φ950
|
<300
|
1100
|
HPION-30
|
3000
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2500
|
2200
|
30000
|
Φ1000
|
<300
|
1250
|
HPION-40
|
3500
|
3000
|
2200
|
40000
|
Φ1200
|
<300
|
1800
|
HPION-50
|
3500
|
3000
|
3000
|
50000
|
Φ1350
|
<300
|
2150
|
HPION-60
|
4000
|
3000
|
3800
|
60000
|
Φ1500
|
<300
|
2800
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HPION-80
|
4000
|
3500
|
4000
|
80000
|
Φ1700
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<300
|
3150
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HPION-100
|
4000
|
4000
|
4500
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100000
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Φ1900
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<300
|
3700
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5、现场实例
 
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